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    中科科儀 場發射掃描電子顯微鏡EM8010

    產品型號: EM8010
    品  牌: 中科科儀
    • ≧1 臺
      ¥1688500.00
    所 在 地: 廣東深圳
    更新日期: 2025-04-03
    詳細信息
     品牌:中科科儀  型號:EM8010  加工定制:是  
     類型:電子  目鏡放大倍數:4-100倍  物鏡放大倍數:8-800000倍  
     儀器放大倍數:8-800000倍  重量:30000 g 適用范圍:8-800000倍  
     裝箱數:1套  重量:30000 g 適用范圍:8-800000倍  
    中科科儀 場發射掃描電子顯微鏡 EM8010

    簡介
    KYKY-EM8010 場發射掃描電子顯微鏡 低電壓下能夠保持較好的亮度和較高的分辨率,標配光學導航功能,觀測更便捷。

     
     
     

    產品介紹
    KYKYEM8010 低電壓下能夠保持較好的亮度和較高的分辨率,束流穩定度高、色散小,適宜長時間的各種精確分析,一鍵standby功能,維護更方便,軟件操作簡便,提升用戶使用體驗。為科研高校、生命科學,新能源等領域客戶提供穩定可靠的產品解決方案。

    產品特點
    1. 1.5nm@15Kv (SE),3nm@30kV (BSE)
    2. 低加速電壓保持較好的亮度和分辨率
    3. 低加速電壓不導電樣品可直接觀測,無需噴金
    4. 肖特基電子槍亮度高、單色性好、電子束斑小、壽命長
    5. 束流穩定度高,色散小,適宜于長時間的各種精確分析
    6. 一鍵standby 維護更方便
    7. 具備光學導航,快速樣品定位

    中科科儀 場發射掃描電子顯微鏡 EM8010 技術指標:
    分辨率 :1.5nm@15KV(SE); 3nm@30KV(BSE) 
    放大倍數: 光學放大倍數4-100倍;電子學放大8-800000倍 
    電子槍: 肖特基熱場發射電子槍 
    加速電壓: 0.2~30kV 
    自動調整功能: 聚焦,亮度/對比度、消像散、電子束對中 
    探測器: 高真空二次電子探測器;紅外CCD攝像頭;一體化背散射探測器;光學導航探測器 
    樣品臺: 五軸全自動中型樣品臺行程:  X=80mm,Y=50mm,Z=30mm,T=-5°~+70°,R=360°
          *大樣品直徑: Ф175mm;*大樣品高度:20mm;樣品臺具有碰撞報警功能。 
    選配探測器: BSE、EDS、EBSD、CL、EBIC等 

    應用領域


    氧化亞硅

     
    芯片缺陷分析

     
    磷酸鐵鋰

    高分辨率的電子顯微鏡
          
           場發射掃描電鏡(FESEM)是一種用于高分辨率表面形貌觀察和化學成分分析的電子顯微鏡‌。它利用二次電子成像原理,通過在低電壓下觀察生物樣品如組織、細胞、微生物以及生物大分子等,獲得忠實原貌的立體感強的樣品表面微形貌結構信息‌。
     
      FESEM具有高分辨率,能夠進行各種固態樣品表面形貌的觀察,并且配備高性能X射線能譜儀,可以進行樣品表層的微區點線面元素的定性、半定量及定量分析,具有形貌和化學組分綜合分析能力‌。
     
      場發射掃描電鏡是一種高分辨率的電子顯微鏡,其基本原理是利用電子束與樣品表面相互作用,通過探針掃描來獲取樣品表面的形貌和微觀結構信息。場發射掃描電鏡在納米材料、生物醫學、電子元器件等領域的應用廣泛,可以觀察到樣品表面的微觀結構和形貌,對樣品的成分、形貌、微觀結構等進行分析。
     
      場發射掃描電鏡在納米材料領域的應用廣泛,可以對納米材料的微觀結構和形貌進行觀察和分析。例如,在納米材料的制備過程中,可以利用場發射掃描電鏡觀察到納米材料的形貌和大小,從而對納米材料的性質和應用進行研究。
     
      場發射掃描電鏡在電子元器件領域的應用主要是觀察微電子器件的微觀結構和形貌,可以幫助工程師更好地了解微電子器件的性能和特點。例如,在微電子器件的制造過程中,可以利用場發射掃描電鏡觀察微電子器件的微觀結構和形貌,從而對微電子器件的性能和可靠性進行評估。
     
      綜上所述,場發射掃描電鏡憑借其好的性能和廣泛的應用領域,在科研和工業制造中發揮著越來越重要的作用。


    場發射掃描電鏡應用領域

    場發射掃描電鏡廣泛應用于半導體、無機非金屬材料及器件、納米材料、生物樣品(如組織、細胞、微生物及生物大分子)等的檢測和分析。
     
      場發射掃描電鏡是一種用于材料科學領域的分析儀器,‌它主要用于觀察和分析材料的表面形貌和微區成分。‌場發射掃描電鏡具有高分辨率,‌能夠在低加速電壓下觀察絕緣或導電性差的樣品,‌這對于研究納米材料等方向有用。‌此外,‌場發射掃描電鏡還配備了X射線能譜儀,‌可以在觀察樣品表面微觀形貌的同時進行微區成分定性、‌定量、‌元素分布以及相分析,‌是研究納米材料等方向的有力工具。‌
     
      在使用場發射掃描電鏡時,需要注意其運行環境條件的控制,包括溫度、濕度、震動、磁場強度等因素。同時,還需定期檢查和維護電子光學系統、真空系統等核心部件,以確保設備的穩定運行和長壽命。此外,對于燈絲等易損件需及時更換并正確維護,以避免對實驗結果的影響。
     
      場發射掃描電鏡的特點包括:‌
     
      高分辨率:‌二次電子分辨率在1.0nm至2.0nm之間,‌這有助于觀察材料的細微結構。‌
     
      寬放大倍數范圍:‌從×20至×800,000,‌適應不同尺度下的觀察需求。‌
     
      冷陰極場發射電子源,‌提供穩定的電子束流。‌
     
      靈活的加速電壓范圍:‌從0.5kV至30kV,‌可根據樣品特性進行調整。‌
     
      配備X射線能譜儀,‌進行微區成分分析。‌
     
      此外,‌場發射掃描電鏡還具有在低真空或充入特定氣體條件下進行觀察的能力,‌這使得它能夠直接觀察含水、‌含油及不導電樣品,‌而無需進行特殊處理。‌通過向樣品室充入水蒸氣,‌可以在不破壞樣品的情況下進行觀察。‌此外,‌場發射掃描電鏡還可以對樣品進行加溫和降溫處理,‌實時觀測化學反應過程,‌廣泛應用于材料科學、‌生命科學、‌‌地質、‌有機化學等多個領域的研究和分析。‌
     
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